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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-4-III-9HV

A three-zone quartz-tube workstation for multi-gas deposition studies, integrating nine mass-flow channels with programmable heating and high-vacuum pumping.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
Gas control 9 MFC channels; ±1.5% FS; ranges configured by channel
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 7 kW max

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.