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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace

ModèleOTF-1200X-4-III-9HV

A three-zone quartz-tube workstation for multi-gas deposition studies, integrating nine mass-flow channels with programmable heating and high-vacuum pumping.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
Gas control 9 MFC channels; ±1.5% FS; ranges configured by channel
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 7 kW max

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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