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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-4-III-9HV

A three-zone quartz-tube workstation for multi-gas deposition studies, integrating nine mass-flow channels with programmable heating and high-vacuum pumping.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zones 220 + 440 + 220 mm
Quartz tube 100 mm OD x 92 mm ID x 1400 mm L
Gas control 9 MFC channels; ±1.5% FS; ranges configured by channel
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 7 kW max

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.