Fornecimento B2B de equipamentos de laboratório Coordenação de fornecedores · Esclarecimento técnico · Suporte à exportação
Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace

ModeloOTF-1200X-III-RR

A continuous-feed CVD furnace transports flexible substrates through three heated zones, with separate supply and collection chambers and adjustable foil tension.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zones 150 + 300 + 150 mm
Quartz tube 100 mm OD x 1400 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zones 150 + 300 + 150 mm
Quartz tube 100 mm OD x 1400 mm L
Transport speed 1–400 mm/min
Tension adjustment 0–1000 g

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.