OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace
A continuous-feed CVD furnace transports flexible substrates through three heated zones, with separate supply and collection chambers and adjustable foil tension.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min |
|---|---|
| Heating zones | 150 + 300 + 150 mm |
| Quartz tube | 100 mm OD x 1400 mm L |
| Transport speed | 1–400 mm/min |
| Tension adjustment | 0–1000 g |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
Plus de produits dans cette catégorie
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
