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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace

ModeloOTF-1200X-III-RR

A continuous-feed CVD furnace transports flexible substrates through three heated zones, with separate supply and collection chambers and adjustable foil tension.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zones 150 + 300 + 150 mm
Quartz tube 100 mm OD x 1400 mm L
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zones 150 + 300 + 150 mm
Quartz tube 100 mm OD x 1400 mm L
Transport speed 1–400 mm/min
Tension adjustment 0–1000 g

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.