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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-II-80HG-UL Humidity-Controlled CVD Tube Furnace

ModeloOTF-1200X-II-80HG-UL

A dual-zone tube furnace combines liquid-vapor delivery, humidity measurement and hydrogen leak shutoff for controlled-humidity CVD and hot-corrosion research.

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
Quartz tube 80 mm OD x 74 mm ID x 1000 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 400 mm total
Quartz tube 80 mm OD x 74 mm ID x 1000 mm L
Liquid evaporator 600 mL; up to 250 °C
Humidity measurement 0–100% RH; ±1.5% FS
Hydrogen alarm 20% LEL alarm with automatic inlet shutoff

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.