Fornecimento B2B de equipamentos de laboratório Coordenação de fornecedores · Esclarecimento técnico · Suporte à exportação
Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-S-50-DFSL

Two independently movable furnaces share a long quartz tube, allowing separate source and deposition heating positions for thermal CVD experiments.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
Temperature program Independent 30-segment control
Furnace power 1.2 kW each; 2.4 kW total

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.