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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace

ModèleOTF-1200X-S-50-DFSL

Two independently movable furnaces share a long quartz tube, allowing separate source and deposition heating positions for thermal CVD experiments.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
Temperature program Independent 30-segment control
Furnace power 1.2 kW each; 2.4 kW total

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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