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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace

ModeloOTF-1200X-S-50-DFSL

Two independently movable furnaces share a long quartz tube, allowing separate source and deposition heating positions for thermal CVD experiments.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heated sections 2 x 200 mm
Quartz tube 50 mm OD x 44 mm ID x 1500 mm L
Temperature program Independent 30-segment control
Furnace power 1.2 kW each; 2.4 kW total

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.