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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control

ModeloOTF-1200X-II-F3LV

Two independently controlled heating zones create a longer uniform region or a thermal gradient in an 80 mm quartz tube, with gas mixing and mechanical pumping integrated below.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Temperature control 2 controllers; 30 segments each; ±1 °C

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.