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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control

ModèleOTF-1200X-II-F3LV

Two independently controlled heating zones create a longer uniform region or a thermal gradient in an 80 mm quartz tube, with gas mixing and mechanical pumping integrated below.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Temperature control 2 controllers; 30 segments each; ±1 °C

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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