Abastecimiento B2B de equipos de laboratorio Coordinación de proveedores · Aclaración técnica · Soporte de exportación
Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control

ModeloOTF-1200X-II-F3LV

Two independently controlled heating zones create a longer uniform region or a thermal gradient in an 80 mm quartz tube, with gas mixing and mechanical pumping integrated below.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 72 mm ID x 1000 mm L
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Temperature control 2 controllers; 30 segments each; ±1 °C

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.