原子層堆積（ALD）
ALD-1200X-4 Dual-Zone Tube ALD System
モデルALD-1200X-4
A 4-inch tube ALD system with independently programmed heating zones, fast dosing valves and four-channel gas control for controlled precursor exposure.
Continuous temperature
1100 °C
Heating zones
2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
ALD dosing valves
2 valves; 10 ms minimum pulse
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Continuous temperature | 1100 °C |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings |
| ALD dosing valves | 2 valves; 10 ms minimum pulse |
| Gas flow control | 4 MFC channels; ±0.2% FS |
| Furnace power | 208–240 V AC, single phase; 4 kW |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
製品説明
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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