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Deposición de capas atómicas (ALD)

ALD-1200X-4 Dual-Zone Tube ALD System

ModeloALD-1200X-4

A 4-inch tube ALD system with independently programmed heating zones, fast dosing valves and four-channel gas control for controlled precursor exposure.

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
ALD dosing valves 2 valves; 10 ms minimum pulse
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Continuous temperature 1100 °C
Heating zones 2 x 200 mm; 250 mm uniform zone at equal settings
ALD dosing valves 2 valves; 10 ms minimum pulse
Gas flow control 4 MFC channels; ±0.2% FS
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 4 kW

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Los detalles de compra pueden confirmarse antes de ordenar.

Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.

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