薄膜沉积设备
RF-600-LD 等离子工艺用 600 W 射频电源
型号RF-600-LD
适用于 50 Ω 负载的射频电源，可选不同频率版本，供等离子工艺设备集成使用。
最大正向功率
50 Ω 负载下 600 W
可选频率版本
400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
频率稳定度
±0.005%
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
最大正向功率: 50 Ω 负载下 600 W
-
可选频率版本: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
-
频率稳定度: ±0.005%
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 最大正向功率 | 50 Ω 负载下 600 W |
|---|---|
| 可选频率版本 | 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz |
| 频率稳定度 | ±0.005% |
| 上升时间 | <200 ms |
| 交流输入 | 208 V；单相 |
| 外形尺寸 | 216 × 134 × 469 mm |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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