薄膜沉积设备
VTC-3HD-VP 带气体净化的三靶射频直流粉体镀膜仪
型号VTC-3HD-VP
集成三组磁控源、振动粉体台和气体净化系统，用于对水氧敏感粉体的镀膜研究。
溅射头
3 个 1 英寸水冷头
电源参数
直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz
建议粉体装量
5–20 mL
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
溅射头: 3 个 1 英寸水冷头
-
电源参数: 直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz
-
建议粉体装量: 5–20 mL
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 溅射头 | 3 个 1 英寸水冷头 |
|---|---|
| 电源参数 | 直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz |
| 建议粉体装量 | 5–20 mL |
| 建议粒径 | 1–1000 µm |
| 腔体内部尺寸 | Ø238 × 276 mm |
| 净化气氛 | O2 <1 ppm; H2O <1 ppm |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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