薄膜成膜装置
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
モデルVTC-3HD-VP
Three magnetron sources, a vibrating powder stage and gas purification support coating research with moisture-sensitive powders.
Sputtering heads
3 × 1 in; water cooled
Source ratings
500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz
Suggested powder volume
5–20 mL
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Sputtering heads: 3 × 1 in; water cooled
-
Source ratings: 500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz
-
Suggested powder volume: 5–20 mL
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Sputtering heads | 3 × 1 in; water cooled |
|---|---|
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz |
| Suggested powder volume | 5–20 mL |
| Suggested particle size | 1–1000 µm |
| Chamber inner size | Ø238 × 276 mm |
| Purified atmosphere | O2 <1 ppm; H2O <1 ppm |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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