薄膜成膜装置
VTC-3RF Three-Head RF Magnetron Coater with Heated Rotating Stage
モデルVTC-3RF
Three 1-inch sources allow sequential coating under vacuum, while the heated rotating stage supports thin-film process development.
Sputtering heads
3 × 1 in
Standard RF supply
100 W; 13.5 MHz; manual matching
Target distance
50–80 mm
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Sputtering heads: 3 × 1 in
-
Standard RF supply: 100 W; 13.5 MHz; manual matching
-
Target distance: 50–80 mm
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Sputtering heads | 3 × 1 in |
|---|---|
| Standard RF supply | 100 W; 13.5 MHz; manual matching |
| Target distance | 50–80 mm |
| Stage diameter | 50 mm |
| Stage rotation | 1–10 rpm |
| Stage heating limits | 600 °C for ≤5 min; 500 °C for ≤2 h |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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