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Equipamentos de deposição de filmes finos

VTC-3RF Three-Head RF Magnetron Coater with Heated Rotating Stage

ModeloVTC-3RF

Three 1-inch sources allow sequential coating under vacuum, while the heated rotating stage supports thin-film process development.

Sputtering heads 3 × 1 in
Standard RF supply 100 W; 13.5 MHz; manual matching
Target distance 50–80 mm
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Sputtering heads: 3 × 1 in

  • Standard RF supply: 100 W; 13.5 MHz; manual matching

  • Target distance: 50–80 mm

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Sputtering heads 3 × 1 in
Standard RF supply 100 W; 13.5 MHz; manual matching
Target distance 50–80 mm
Stage diameter 50 mm
Stage rotation 1–10 rpm
Stage heating limits 600 °C for ≤5 min; 500 °C for ≤2 h

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.