Equipamentos de deposição de filmes finos

VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System

Name: VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System | LabSova
Brand: LabSova
SKU: VTC-1RF-SPC

ModeloVTC-1RF-SPC

A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.

Sputtering source options 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz

Maximum evaporation temperature 1350 °C

Chamber size Ø250 × 360 mm

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Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature: 1350 °C
Chamber size: Ø250 × 360 mm

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Sputtering source options	500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature	1350 °C
Chamber size	Ø250 × 360 mm
Sample stage diameter	100 mm
Maximum stage temperature	700 °C
Specified cold base pressure	8 × 10^-6 Torr

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

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