VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System
A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Ключевые характеристики продукта
-
Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
-
Maximum evaporation temperature: 1350 °C
-
Chamber size: Ø250 × 360 mm
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Sputtering source options | 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz |
|---|---|
| Maximum evaporation temperature | 1350 °C |
| Chamber size | Ø250 × 360 mm |
| Sample stage diameter | 100 mm |
| Maximum stage temperature | 700 °C |
| Specified cold base pressure | 8 × 10^-6 Torr |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.







