VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System
A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características clave del producto
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Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
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Maximum evaporation temperature: 1350 °C
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Chamber size: Ø250 × 360 mm
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Sputtering source options | 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz |
|---|---|
| Maximum evaporation temperature | 1350 °C |
| Chamber size | Ø250 × 360 mm |
| Sample stage diameter | 100 mm |
| Maximum stage temperature | 700 °C |
| Specified cold base pressure | 8 × 10^-6 Torr |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.







