توريد معدات مختبرية B2B تنسيق الموردين · توضيح فني · دعم التصدير
معدات ترسيب الأغشية الرقيقة

VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System

النموذجVTC-1RF-SPC

A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.

Sputtering source options 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature 1350 °C
Chamber size Ø250 × 360 mm
  • يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
  • تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
  • تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب
ميزات المعدات

ميزات المنتج الرئيسية

  • Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz

  • Maximum evaporation temperature: 1350 °C

  • Chamber size: Ø250 × 360 mm

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Sputtering source options 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature 1350 °C
Chamber size Ø250 × 360 mm
Sample stage diameter 100 mm
Maximum stage temperature 700 °C
Specified cold base pressure 8 × 10^-6 Torr

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.