معدات ترسيب الأغشية الرقيقة
VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System
النموذجVTC-1RF-SPC
A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.
Sputtering source options
500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature
1350 °C
Chamber size
Ø250 × 360 mm
- يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
- تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
- تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب
اتصال فني مباشر
ميزات المعدات
ميزات المنتج الرئيسية
-
Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
-
Maximum evaporation temperature: 1350 °C
-
Chamber size: Ø250 × 360 mm
بيانات فنية
المواصفات الفنية
تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.
Key specifications
| Sputtering source options | 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz |
|---|---|
| Maximum evaporation temperature | 1350 °C |
| Chamber size | Ø250 × 360 mm |
| Sample stage diameter | 100 mm |
| Maximum stage temperature | 700 °C |
| Specified cold base pressure | 8 × 10^-6 Torr |
قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.
اتصال فني مباشر
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
يمكن تأكيد تفاصيل الشراء قبل الطلب.
تأكيد المتطلبات
للمشترين الدوليين، يمكن أن يشمل تأكيد العرض التكوين والملحقات وطريقة التعبئة ومستندات التصدير وصور أو فيديو الفحص وشروط الشحن.
معدات ذات صلة







