VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System
A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Wichtige Produktmerkmale
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Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
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Maximum evaporation temperature: 1350 °C
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Chamber size: Ø250 × 360 mm
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Sputtering source options | 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz |
|---|---|
| Maximum evaporation temperature | 1350 °C |
| Chamber size | Ø250 × 360 mm |
| Sample stage diameter | 100 mm |
| Maximum stage temperature | 700 °C |
| Specified cold base pressure | 8 × 10^-6 Torr |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.







