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Dünnschichtbeschichtungsanlagen

VTC-1RF-SPC Hybrid Magnetron Sputtering and Thermal Evaporation System

ModellVTC-1RF-SPC

A stainless-steel chamber combines a magnetron source and a temperature-controlled evaporation crucible for complementary deposition processes.

Sputtering source options 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature 1350 °C
Chamber size Ø250 × 360 mm
  • Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
  • Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
  • Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Gerätemerkmale

Wichtige Produktmerkmale

  • Sputtering source options: 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz

  • Maximum evaporation temperature: 1350 °C

  • Chamber size: Ø250 × 360 mm

Technische Daten

Technische Spezifikationen

Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.

Key specifications

Sputtering source options 500 W DC or 300 W RF, 13.56 MHz
Maximum evaporation temperature 1350 °C
Chamber size Ø250 × 360 mm
Sample stage diameter 100 mm
Maximum stage temperature 700 °C
Specified cold base pressure 8 × 10^-6 Torr

Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.