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Équipements de dépôt de couches minces

VTC-3RF Three-Head RF Magnetron Coater with Heated Rotating Stage

ModèleVTC-3RF

Three 1-inch sources allow sequential coating under vacuum, while the heated rotating stage supports thin-film process development.

Sputtering heads 3 × 1 in
Standard RF supply 100 W; 13.5 MHz; manual matching
Target distance 50–80 mm
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Sputtering heads: 3 × 1 in

  • Standard RF supply: 100 W; 13.5 MHz; manual matching

  • Target distance: 50–80 mm

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Sputtering heads 3 × 1 in
Standard RF supply 100 W; 13.5 MHz; manual matching
Target distance 50–80 mm
Stage diameter 50 mm
Stage rotation 1–10 rpm
Stage heating limits 600 °C for ≤5 min; 500 °C for ≤2 h

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.