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Équipements de dépôt de couches minces

VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater

ModèleVTC-16-3HD-LD

Three coating positions and touchscreen control support successive metallic coatings without manually repositioning the sample.

Target size Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm
Output 1600 V DC; 40 mA max.
Chamber inner size Ø150 × 150 mm
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Target size: Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm

  • Output: 1600 V DC; 40 mA max.

  • Chamber inner size: Ø150 × 150 mm

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Target size Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm
Output 1600 V DC; 40 mA max.
Chamber inner size Ø150 × 150 mm
Sample stage Ø50 mm; 3 coating positions
Target distance 25–40 mm
Optional stage heater Up to 500 °C

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.