薄膜沉积设备
VTC-16-3HD-LD 三靶旋转等离子溅射镀膜仪
型号VTC-16-3HD-LD
通过三个镀膜位置与触屏控制实现多靶金属镀膜，减少手动调整样品位置。
靶材尺寸
直径 47 mm；厚度 ≤2.5 mm
输出
1600 V DC; 40 mA max.
腔体内部尺寸
Ø150 × 150 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
靶材尺寸: 直径 47 mm；厚度 ≤2.5 mm
-
输出: 1600 V DC; 40 mA max.
-
腔体内部尺寸: Ø150 × 150 mm
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 靶材尺寸 | 直径 47 mm；厚度 ≤2.5 mm |
|---|---|
| 输出 | 1600 V DC; 40 mA max. |
| 腔体内部尺寸 | Ø150 × 150 mm |
| 样品台 | 直径 50 mm；3 个镀膜位置 |
| 靶基距 | 25–40 mm |
| 选配样品台加热 | 最高 500 °C |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
同分类更多产品
VTC-16-D
VTC-16-D SEM 样品用小型直流溅射镀膜仪
查看详情 →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD 溅射与碳蒸发二合一镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W 旋转样品台直流磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX 可选直流或射频源的小型磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-PW
VTC-16-PW 振动样品杯直流磁控粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP 带气体净化的三靶射频直流粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3RF
VTC-3RF 加热旋转样品台三靶射频磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-1RF-SPC