薄膜沉积设备
VTC-16-PW 振动样品杯直流磁控粉体镀膜仪
型号VTC-16-PW
振动粉体杯使颗粒接触 2 英寸直流溅射源，用于小批量粉体表面镀膜研究。
直流源参数
250 W; 150 mA max.
靶基距
60–100 mm
建议粉体装量
1–5 mL
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
直流源参数: 250 W; 150 mA max.
-
靶基距: 60–100 mm
-
建议粉体装量: 1–5 mL
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 直流源参数 | 250 W; 150 mA max. |
|---|---|
| 靶基距 | 60–100 mm |
| 建议粉体装量 | 1–5 mL |
| 建议粒径 | 1–1000 µm |
| 振动电机转速 | 400–2000 rpm |
| 腔体内部尺寸 | Ø150 × 250 mm |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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