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薄膜沉积设备

VTC-STX-XX 可选直流或射频源的小型磁控镀膜仪

型号VTC-STX-XX

小型石英腔体镀膜平台,配备旋转样品台,可根据靶材选择直流或射频电源。

电源选项 500 W 直流或 300 W 射频
溅射头 2 英寸;水冷
腔体内部尺寸 Ø150 × 250 mm
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
设备特点

主要产品特点

  • 电源选项: 500 W 直流或 300 W 射频

  • 溅射头: 2 英寸;水冷

  • 腔体内部尺寸: Ø150 × 250 mm

技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

电源选项 500 W 直流或 300 W 射频
溅射头 2 英寸;水冷
腔体内部尺寸 Ø150 × 250 mm
样品台直径 50 mm
样品台转速 1–10 rpm
选配样品台加热 最高 500 °C

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。