薄膜沉积设备
VTC-16-D SEM 样品用小型直流溅射镀膜仪
型号VTC-16-D
适用于 SEM 样品贵金属导电膜制备的小型直流磁控镀膜仪，样品台高度可调。
溅射头直径
2 in
直流输出
500 V; 0–50 mA
镀膜时间
1–120 s
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
溅射头直径: 2 in
-
直流输出: 500 V; 0–50 mA
-
镀膜时间: 1–120 s
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 溅射头直径 | 2 in |
|---|---|
| 直流输出 | 500 V; 0–50 mA |
| 镀膜时间 | 1–120 s |
| 腔体内部尺寸 | Ø150 × 150 mm |
| 样品台 | 直径 2 英寸；靶基距 25–70 mm |
| 标称极限压力 | 约 1 Pa |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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