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薄膜成膜装置

VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater

モデルVTC-16-3HD-LD

Three coating positions and touchscreen control support successive metallic coatings without manually repositioning the sample.

Target size Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm
Output 1600 V DC; 40 mA max.
Chamber inner size Ø150 × 150 mm
  • 最終構成は見積前に確認
  • 用途に応じてカスタムと付属品を確認
  • 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴

主な製品特徴

  • Target size: Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm

  • Output: 1600 V DC; 40 mA max.

  • Chamber inner size: Ø150 × 150 mm

技術データ

技術仕様

仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。

Key specifications

Target size Ø47 mm; thickness ≤2.5 mm
Output 1600 V DC; 40 mA max.
Chamber inner size Ø150 × 150 mm
Sample stage Ø50 mm; 3 coating positions
Target distance 25–40 mm
Optional stage heater Up to 500 °C

仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.