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薄膜成膜装置

GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater

モデルGSL-1100X-SPC-16C-LD

Separate sputtering and evaporation heads support conductive film preparation, with quartz chambers and a 45 mm coating area.

Sputtering output 1600 V DC; 50 mA max.
Evaporation output 10 V AC; 20 A max.
Quartz chambers 2 × Ø160 × 120 mm
  • 最終構成は見積前に確認
  • 用途に応じてカスタムと付属品を確認
  • 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴

主な製品特徴

  • Sputtering output: 1600 V DC; 50 mA max.

  • Evaporation output: 10 V AC; 20 A max.

  • Quartz chambers: 2 × Ø160 × 120 mm

技術データ

技術仕様

仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。

Key specifications

Sputtering output 1600 V DC; 50 mA max.
Evaporation output 10 V AC; 20 A max.
Quartz chambers 2 × Ø160 × 120 mm
Maximum coating diameter 45 mm
Sample stage diameter 50 mm
Dimensions 300 × 400 × 400 mm

仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.