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Équipements de dépôt de couches minces

VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification

ModèleVTC-3HD-VP

Three magnetron sources, a vibrating powder stage and gas purification support coating research with moisture-sensitive powders.

Sputtering heads 3 × 1 in; water cooled
Source ratings 500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz
Suggested powder volume 5–20 mL
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Sputtering heads: 3 × 1 in; water cooled

  • Source ratings: 500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz

  • Suggested powder volume: 5–20 mL

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Sputtering heads 3 × 1 in; water cooled
Source ratings 500 W DC; 300 W RF at 13.56 MHz
Suggested powder volume 5–20 mL
Suggested particle size 1–1000 µm
Chamber inner size Ø238 × 276 mm
Purified atmosphere O2 <1 ppm; H2O <1 ppm

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.