薄膜成膜装置
RF-600-LD 600 W RF Power Supply for Plasma Process Systems
モデルRF-600-LD
An RF supply for a 50-ohm load, available in specified frequency versions for integration into plasma process equipment.
Maximum forward power
600 W into 50 Ω
Frequency versions
400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability
±0.005%
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Maximum forward power: 600 W into 50 Ω
-
Frequency versions: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
-
Frequency stability: ±0.005%
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Maximum forward power | 600 W into 50 Ω |
|---|---|
| Frequency versions | 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz |
| Frequency stability | ±0.005% |
| Rise time | <200 ms |
| AC input | 208 V; single phase |
| Dimensions | 216 × 134 × 469 mm |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
関連設備
同カテゴリのその他製品
VTC-16-D
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
詳細を見る →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
詳細を見る →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
詳細を見る →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
詳細を見る →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
詳細を見る →
VTC-16-PW
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
詳細を見る →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
詳細を見る →
VTC-3RF