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Equipamentos de deposição de filmes finos

RF-600-LD 600 W RF Power Supply for Plasma Process Systems

ModeloRF-600-LD

An RF supply for a 50-ohm load, available in specified frequency versions for integration into plasma process equipment.

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Maximum forward power: 600 W into 50 Ω

  • Frequency versions: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz

  • Frequency stability: ±0.005%

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
Rise time <200 ms
AC input 208 V; single phase
Dimensions 216 × 134 × 469 mm

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.