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Equipos de deposición de películas delgadas

RF-600-LD 600 W RF Power Supply for Plasma Process Systems

ModeloRF-600-LD

An RF supply for a 50-ohm load, available in specified frequency versions for integration into plasma process equipment.

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características del equipo

Características clave del producto

  • Maximum forward power: 600 W into 50 Ω

  • Frequency versions: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz

  • Frequency stability: ±0.005%

Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
Rise time <200 ms
AC input 208 V; single phase
Dimensions 216 × 134 × 469 mm

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.