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Équipements de dépôt de couches minces

RF-600-LD 600 W RF Power Supply for Plasma Process Systems

ModèleRF-600-LD

An RF supply for a 50-ohm load, available in specified frequency versions for integration into plasma process equipment.

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Caractéristiques de l’équipement

Principales caractéristiques

  • Maximum forward power: 600 W into 50 Ω

  • Frequency versions: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz

  • Frequency stability: ±0.005%

Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Maximum forward power 600 W into 50 Ω
Frequency versions 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
Frequency stability ±0.005%
Rise time <200 ms
AC input 208 V; single phase
Dimensions 216 × 134 × 469 mm

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.