RF-600-LD 600 W RF Power Supply for Plasma Process Systems
An RF supply for a 50-ohm load, available in specified frequency versions for integration into plasma process equipment.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Wichtige Produktmerkmale
-
Maximum forward power: 600 W into 50 Ω
-
Frequency versions: 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz
-
Frequency stability: ±0.005%
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Maximum forward power | 600 W into 50 Ω |
|---|---|
| Frequency versions | 400 kHz; 2, 13.56, 27.12, 40.68 or 60 MHz |
| Frequency stability | ±0.005% |
| Rise time | <200 ms |
| AC input | 208 V; single phase |
| Dimensions | 216 × 134 × 469 mm |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
Mehr aus dieser Kategorie
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
Details ansehen →
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
Details ansehen →
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
Details ansehen →
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
Details ansehen →
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
Details ansehen →
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
Details ansehen →
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
Details ansehen →