薄膜沉积设备
VTC-600-2HD-LD 双源射频直流磁控薄膜镀膜机
型号VTC-600-2HD-LD
两组独立供电的 2 英寸磁控源，配合加热旋转基片台和双路气体流量控制。
溅射头
2 × 2 in
电源参数
直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz
腔体尺寸
Ø300 × 300 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
溅射头: 2 × 2 in
-
电源参数: 直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz
-
腔体尺寸: Ø300 × 300 mm
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 溅射头 | 2 × 2 in |
|---|---|
| 电源参数 | 直流 500 W；射频 300 W、13.56 MHz |
| 腔体尺寸 | Ø300 × 300 mm |
| 样品台直径 | 140 mm |
| 样品台转速与加热 | 1–20 rpm；最高 500 °C |
| 气体控制 | 2 路 MFC；0–200 sccm，以氮气标定 |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
同分类更多产品
VTC-16-D
VTC-16-D SEM 样品用小型直流溅射镀膜仪
查看详情 →
GSL-1100X-SPC-16C-LD
GSL-1100X-SPC-16C-LD 溅射与碳蒸发二合一镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-3HD-LD
VTC-16-3HD-LD 三靶旋转等离子溅射镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-SM
VTC-16-SM 250 W 旋转样品台直流磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-STX-XX
VTC-STX-XX 可选直流或射频源的小型磁控镀膜仪
查看详情 →
VTC-16-PW
VTC-16-PW 振动样品杯直流磁控粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3HD-VP
VTC-3HD-VP 带气体净化的三靶射频直流粉体镀膜仪
查看详情 →
VTC-3RF