VTC-600-2HD-LD Dual-Source RF/DC Magnetron Thin-Film Coater
Two independently powered 2-inch sources combine with a heated rotating substrate stage and dual gas-flow control.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características clave del producto
-
Sputtering heads: 2 × 2 in
-
Source ratings: 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
-
Chamber size: Ø300 × 300 mm
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Sputtering heads | 2 × 2 in |
|---|---|
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz |
| Chamber size | Ø300 × 300 mm |
| Stage diameter | 140 mm |
| Stage rotation and heat | 1–20 rpm; up to 500 °C |
| Gas controllers | 2 MFCs; 0–200 sccm, N2 calibrated |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
Más de esta categoría
VTC-16-D Compact DC Sputter Coater for SEM Sample Preparation
Ver detalles →
GSL-1100X-SPC-16C-LD Combined Sputter and Carbon Evaporation Coater
Ver detalles →
VTC-16-3HD-LD Three-Target Rotary Plasma Sputtering Coater
Ver detalles →
VTC-16-SM 250 W DC Magnetron Coater with Rotating Stage
Ver detalles →
VTC-STX-XX Compact 2-Inch Magnetron Coater with DC or RF Options
Ver detalles →
VTC-16-PW DC Magnetron Powder Coater with Vibrating Sample Cup
Ver detalles →
VTC-3HD-VP Three-Head RF/DC Powder Coater with Gas Purification
Ver detalles →