VTC-600-2HD-LD Dual-Source RF/DC Magnetron Thin-Film Coater
Two independently powered 2-inch sources combine with a heated rotating substrate stage and dual gas-flow control.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Wichtige Produktmerkmale
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Sputtering heads: 2 × 2 in
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Source ratings: 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
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Chamber size: Ø300 × 300 mm
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Sputtering heads | 2 × 2 in |
|---|---|
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz |
| Chamber size | Ø300 × 300 mm |
| Stage diameter | 140 mm |
| Stage rotation and heat | 1–20 rpm; up to 500 °C |
| Gas controllers | 2 MFCs; 0–200 sccm, N2 calibrated |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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