VTC-600-2HD-LD Dual-Source RF/DC Magnetron Thin-Film Coater
Two independently powered 2-inch sources combine with a heated rotating substrate stage and dual gas-flow control.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Principales caractéristiques
-
Sputtering heads: 2 × 2 in
-
Source ratings: 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
-
Chamber size: Ø300 × 300 mm
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Sputtering heads | 2 × 2 in |
|---|---|
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz |
| Chamber size | Ø300 × 300 mm |
| Stage diameter | 140 mm |
| Stage rotation and heat | 1–20 rpm; up to 500 °C |
| Gas controllers | 2 MFCs; 0–200 sccm, N2 calibrated |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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