薄膜成膜装置
VTC-600-2HD-LD Dual-Source RF/DC Magnetron Thin-Film Coater
モデルVTC-600-2HD-LD
Two independently powered 2-inch sources combine with a heated rotating substrate stage and dual gas-flow control.
Sputtering heads
2 × 2 in
Source ratings
500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
Chamber size
Ø300 × 300 mm
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Sputtering heads: 2 × 2 in
-
Source ratings: 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
-
Chamber size: Ø300 × 300 mm
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Sputtering heads | 2 × 2 in |
|---|---|
| Source ratings | 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz |
| Chamber size | Ø300 × 300 mm |
| Stage diameter | 140 mm |
| Stage rotation and heat | 1–20 rpm; up to 500 °C |
| Gas controllers | 2 MFCs; 0–200 sccm, N2 calibrated |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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