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Equipamentos de deposição de filmes finos

VTC-600-2HD-LD Dual-Source RF/DC Magnetron Thin-Film Coater

ModeloVTC-600-2HD-LD

Two independently powered 2-inch sources combine with a heated rotating substrate stage and dual gas-flow control.

Sputtering heads 2 × 2 in
Source ratings 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
Chamber size Ø300 × 300 mm
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Sputtering heads: 2 × 2 in

  • Source ratings: 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz

  • Chamber size: Ø300 × 300 mm

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Sputtering heads 2 × 2 in
Source ratings 500 W DC; 300 W RF, 13.56 MHz
Chamber size Ø300 × 300 mm
Stage diameter 140 mm
Stage rotation and heat 1–20 rpm; up to 500 °C
Gas controllers 2 MFCs; 0–200 sccm, N2 calibrated

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.