薄膜沉积设备
VTC-150-H 立式炉 PVD/CVD 复合镀膜平台
型号VTC-150-H
立式管式炉平台集成磁控溅射和旋转样品架，用于复合薄膜沉积研究。
炉体温度额定值
1100 °C
炉管直径
5 in
溅射头
1 英寸；水冷
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
设备特点
主要产品特点
-
炉体温度额定值: 1100 °C
-
炉管直径: 5 in
-
溅射头: 1 英寸；水冷
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 炉体温度额定值 | 1100 °C |
|---|---|
| 炉管直径 | 5 in |
| 溅射头 | 1 英寸；水冷 |
| 靶基距 | 60–100 mm |
| 样品架 | 直径 3 英寸；1–10 rpm |
| 电源 | 208–240 V AC, 50/60 Hz; 3000 W |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请与 LabSova 确认靶材、基片尺寸、供电、真空泵、冷却及气体要求。选配部件及实验室配套条件需另行确认。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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