薄膜成膜装置
VTC-150-H Hybrid PVD/CVD Coating Platform with Vertical Furnace
モデルVTC-150-H
A vertical tube-furnace platform integrates magnetron sputtering with a rotating sample holder for combined deposition studies.
Furnace temperature rating
1100 °C
Tube diameter
5 in
Sputtering head
1 in; water cooled
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
設備の特徴
主な製品特徴
-
Furnace temperature rating: 1100 °C
-
Tube diameter: 5 in
-
Sputtering head: 1 in; water cooled
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Furnace temperature rating | 1100 °C |
|---|---|
| Tube diameter | 5 in |
| Sputtering head | 1 in; water cooled |
| Target distance | 60–100 mm |
| Sample holder | 3 in diameter; 1–10 rpm |
| Electrical supply | 208–240 V AC, 50/60 Hz; 3000 W |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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