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Equipos de deposición de películas delgadas

VTC-150-H Hybrid PVD/CVD Coating Platform with Vertical Furnace

ModeloVTC-150-H

A vertical tube-furnace platform integrates magnetron sputtering with a rotating sample holder for combined deposition studies.

Furnace temperature rating 1100 °C
Tube diameter 5 in
Sputtering head 1 in; water cooled
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Características del equipo

Características clave del producto

  • Furnace temperature rating: 1100 °C

  • Tube diameter: 5 in

  • Sputtering head: 1 in; water cooled

Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Furnace temperature rating 1100 °C
Tube diameter 5 in
Sputtering head 1 in; water cooled
Target distance 60–100 mm
Sample holder 3 in diameter; 1–10 rpm
Electrical supply 208–240 V AC, 50/60 Hz; 3000 W

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.