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Equipamentos de deposição de filmes finos

VTC-150-H Hybrid PVD/CVD Coating Platform with Vertical Furnace

ModeloVTC-150-H

A vertical tube-furnace platform integrates magnetron sputtering with a rotating sample holder for combined deposition studies.

Furnace temperature rating 1100 °C
Tube diameter 5 in
Sputtering head 1 in; water cooled
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Recursos do equipamento

Principais recursos do produto

  • Furnace temperature rating: 1100 °C

  • Tube diameter: 5 in

  • Sputtering head: 1 in; water cooled

Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Furnace temperature rating 1100 °C
Tube diameter 5 in
Sputtering head 1 in; water cooled
Target distance 60–100 mm
Sample holder 3 in diameter; 1–10 rpm
Electrical supply 208–240 V AC, 50/60 Hz; 3000 W

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.