VTC-150-H Hybrid PVD/CVD Coating Platform with Vertical Furnace
A vertical tube-furnace platform integrates magnetron sputtering with a rotating sample holder for combined deposition studies.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Principales caractéristiques
-
Furnace temperature rating: 1100 °C
-
Tube diameter: 5 in
-
Sputtering head: 1 in; water cooled
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Furnace temperature rating | 1100 °C |
|---|---|
| Tube diameter | 5 in |
| Sputtering head | 1 in; water cooled |
| Target distance | 60–100 mm |
| Sample holder | 3 in diameter; 1–10 rpm |
| Electrical supply | 208–240 V AC, 50/60 Hz; 3000 W |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Confirm target materials, substrate dimensions, power sources, vacuum pumps, cooling and gas requirements with LabSova. Optional components and laboratory utilities must be specified separately.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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